| 「MX50L」シリーズは、1996年の発売以来、200mm半導体ウェハ検査顕微鏡の標準機となっている「MX50」シリーズの姉妹機にあたります。今回新発売の「MX50L-T(落射・透過照明兼用機)」は、1998年5月から先行発売した「MX50L-R(落射照明専用)」の追加機種であり、この2機種が揃うことにより、「MX50L」シリーズのラインナップが完成しました。
近年、半導体製造においては半導体の高集積化と高生産性に伴いデバイスも大型化が進んでいる傍ら、半導体検査に携わるユーザーからは「長時間の検査でも疲れない、より使いやすい検査顕微鏡」が求められています。
「MX50L」シリーズは、使いやすさを徹底追求し、疲労を軽減すると同時に検査効率も向上させています。操作部を前面に配置し、手前にレールガイドの突き出しがないため操作性の向上が図られています。また、検鏡者の姿勢に合わせられるティルティング鏡筒を採用し、立ったままの自然な姿勢で操作を可能にしています。顕微鏡の心臓部である光学系には、高解像・高コントラストで半導体業界に評価の高い当社独自のUIS光学系(無限遠補正光学系)(注2)を採用しています。また、300mmウェハ対応のマニュアル検査顕微鏡の分野で、世界で初めてコンフォーカルユニット(注3)の搭載を可能にし、0.18μmのデザインルールのデバイス検査としての可能性を広げました。
更に、「MX50L-T」では、新開発の透過照明コンデンサの採用により、9mm厚のフォトマスク(注4)もクリアな観察像が得られる等半導体マスクやFPD検査の様々なニーズに対応できます。
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